Chigasaki, Japan, Jul 5, 2022 – (亞太商訊 via SEAPRWire.com) – ULVAC-PHI 股份有限公司（神奈川縣茅崎市、社長 原 泰博）推出一款追求高自動化及精簡操作的「PHI GENESIS」全新多功能掃描式 X 射線光電子能譜分析儀（XPS：X-ray Photoelectron Spectroscopy 又名 ESCA: Electron Spectroscopy for Chemical Analysis）。
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【背景】
帶動全球產業鏈的全固態電池、先進半導體和光觸媒等先端應用領域，都大量使用不同的複合材料，在材料的研究開發中，不僅對材料的性能以及優化材料界面粘附性質有要求，同時也需要與時間賽跑。為了滿足日新月異且複雜的表面與界面分析需求，從而加快材料的研究和開發，我們推出了全新的 XPS 表面分析儀，不僅具有極強的基本性能、高度的自動化，並能夠滿足客戶的各種個性化要求。這就是 ULVAC-PHI 推出的全新掃描式 X 射線光電子能譜分析儀— PHI GENESIS。
【概述】
「PHI GENESIS」XPS 將大幅進化的基本性能置於高度空間利用的外殼中，它保有50 年傳統的 PHI XPS 系列的“核心基因”並提高了自動化，成為了大幅縮短分析時間，且具有可擴展性的最新科研儀器。
「PHI GENESIS」XPS 通過自動樣品交換以及多點分析功能，結合提高計數率的高靈敏度分析儀，提供快速、高靈敏度和微區的 XPS 分析。迄今為止，ULVAC-PHI 和Physical Electronics USA 已將許多全球首創的 XPS 分析技術投入實際應用中（掃描微聚焦型 X 射線、全自動化 XPS 分析、自動中和絕緣體分析、用團簇離子蝕刻槍對有機材料進行深度分析，以及通過硬 X 射線對無機材料進行無破壞性的深度分析）。整合這些技術到儀器中，便可以為金屬、半導體、陶瓷和有機物質等所有材料提供尖端的 XPS 分析技術。
PHI GENESIS 的另一項創新是對操作簡化的追求，新軟體旨在提供各個層次的用戶都可快速上手使用，無論是表面分析的初學者還是尖端科學家，是在製造現場還是在尖端開發的研究機關，都能夠符合使用者的習慣和需求。ULVAC-PHI亦提供了一個實驗室級的硬 X 射線選項，使得在實驗室環境中同樣可以使用如同大型同步輻射光源才能進行的高階分析。
PHI GENESIS 不僅支持最先進的複合材料分析，同時也能對複合器件的產品進行分析，目標成為加速全球研究與開發必不可少的分析儀器。
【上市時間】
2023 年 4 月
【諮詢電話】
ULVAC-PHI 科技有限公司 製品戰略部 TEL: +81-467-85-6522（代表）
PHI CHINA 高德英特(北京)科技有限公司 TEL: 010 6251 9668
【相關網頁】
https://www.ulvac-phi.com
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